2026–2032年晶圆等离子蚀刻系统产业战略与十五五展望报告 | APO Research

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报告概览

报告编号: 1742751801
出版方: APO Research Inc.
发布日期: 2026-07-05
更新日期: 2026-07-20

类型

电感耦合等离子体蚀刻 (ICP–RIE)
反应离子蚀刻 (RIE)
深反应离子蚀刻 (DRIE)

应用

MEMS
光子器件
功率器件
射频集成电路
其他

企业

Lam Research

TEL

Applied Materials

Hitachi High-Technologies

Oxford Instruments

SPTS Technologies

Plasma-Therm

GigaLane

SAMCO

ULVAC, Inc.

SENTECH Instruments GmbH

Trion Technology

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